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中心研發團隊開發且擁有自主知識產權的產品
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原子層沉積高性能納米透明防腐薄膜制備技術
原子層沉積(ALD)高性能納米透明防腐薄膜制備技術是中心自主開發(ZL201610398336.7)的一種通過原子層循環沉積生長納米薄膜的技術,該技術在貴重金屬的表面防腐上具有顯著優勢。
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光電位置傳感器
基于硅基-氧化鋅功能性薄膜結構的光電位置傳感器是由中心自主開發(ZLCN201410614869.5等)的產品。該產品具有分辨率高、響應速度快、信號輸出簡單及響應光譜范圍寬等優點,在精確光學排列傳感器、表面壓型、旋轉控制、角測量、距離傳感器、指導系統及位置監測等領域具有重要的應用前景。
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高性能半導體氣敏材料
高性能半導體氣敏材料是由中心團隊開發的具有自主知識產權的產品。金屬氧化物氣敏材料作為一種半導體氣敏材料在環境檢測等領域廣泛使用,中心選用氧化錫、氧化鋅、氧化鎢等氣敏材料,通過特定的晶體結構的調控以及摻雜技術,制備的高性能半導體氣敏材料,對硫化氫、丙酮、一氧化碳等具有高靈敏度、高選擇性。
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高精度氣敏性能測試儀
高精度氣敏性能測試儀是由中心自主開發(ZL201610953103.9等)的產品,該產品由數據采集系統、控溫系統、探針調節系統、真空系統和配氣系統五大系統構成,配套測試軟件可實現在線精準控制測試的功能。該氣敏性能測試儀可用于對各種納米材料、薄膜/厚膜材料、粉體/粒子材料、體塊材料等進行氣體傳感器氣敏性能分析測量。
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大尺寸原子層沉積設備
大尺寸原子層沉積系統是由中心自主研發(ZL201610314085.X等)的產品,可滿足12英寸(300 mm)硅片等批量加工需求以及大型零部件的納米薄膜加工需求。系統擁有5個可加熱液態源,可制備多種二元或三元復合納米薄膜,襯底溫度可加熱至400℃,滿足多種加工工藝需求,系統采用PLC全自動控制,可長期穩定可靠連續使用。
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高精度有害氣體檢測器
高精度有害氣體檢測器是由中心團隊自主研發(ZL201610953103.9等)的產品,主要針對有害性氣體(一氧化碳、氮氧化合物等)在低濃度下的檢測,尤其是在20 ppm以下的精確檢測,能夠對有害氣體進行實時精確的監控和數據分析。
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